檢索結果：共3筆資料 檢索策略： "Hung-Fei Kuo".ecommittee (精準) and cadvisor.raw="方劭云"
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隨著現代積體電路的複雜度不斷增加與製程節點的演進，電路可製造性在現代微影(Lithography)製程中正遭遇許多困難。次級解析輔助特徵圖案(SRAF) 擺置與光學鄰近修正(OPC)等重要的解析度增…
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光網路晶片已成為一個未來的趨勢，相較於傳統的晶片，在晶片上的溝通以及多核的系統中，它提供了更佳的頻寬、更有效率的功耗，和更短的延遲。 作為一個光網路晶片的重要元件，光繞線器由波導和光敏開關 (Pho…
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隨著先進製程快速發展以及半導體產業的蓬勃發展，晶片大小也越來越小，因此有更多複雜的設計規則需要被遵守，而一個晶片在被下線之前必須沒有違反任何一個設計規則，這導致一個電路的可繞度就變得相對重要許多。此…